| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
|---|---|
| resistencia a la compresión | ≥70N/cm |
| Porosidad | 40-50% |
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
| Contenido de agua | ≤5% |
| Porosidad | 40-50% |
|---|---|
| ParticleSize (Tamaño de la partícula) | Normalmente entre 50 y 200 micras |
| Resistencia a la abrasión | ≤1% |
| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
| Valor de pH | 6 - 9 |
| Aplicación | Purificación de gas |
|---|---|
| resistencia a la compresión | ≥70N/cm |
| Resistencia a la abrasión | ≤1% |
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
| Valor de pH | 6 - 9 |
| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
|---|---|
| ParticleSize (Tamaño de la partícula) | Normalmente entre 50 y 200 micras |
| Densidad | 5.24 g/cm3 |
| Resistencia a la abrasión | ≤1% |
| Porosidad | 40-50% |
| ParticleSize (Tamaño de la partícula) | Normalmente entre 50 y 200 micras |
|---|---|
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
| Contenido de agua | ≤5% |
| Densidad | 5.24 g/cm3 |
| Volumen de los poros | 0.3-0.5 Cm3/g |
|---|---|
| Resistencia a la abrasión | ≤1% |
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
| Fórmula química | Fe2O3 |
| resistencia a la compresión | ≥70N/cm |
| Valor de pH | 6 - 9 |
|---|---|
| Fórmula química | Fe2O3 |
| resistencia a la compresión | ≥70N/cm |
| Aplicación | Purificación de gas |
| Volumen de los poros | 0.3-0.5 Cm3/g |
| Fórmula química | Fe2O3 |
|---|---|
| Aplicación | Purificación de gas |
| Porosidad | 40-50% |
| Volumen de los poros | 0.3-0.5 Cm3/g |
| Contenido de agua | ≤5% |
| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
|---|---|
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
| Contenido de agua | ≤5% |
| resistencia a la compresión | ≥70N/cm |
| ParticleSize (Tamaño de la partícula) | Normalmente entre 50 y 200 micras |
| densidad aparente | 10,0-1,2 g/cm3 |
|---|---|
| Aplicación | Purificación de gas |
| Valor de pH | 6 - 9 |
| Solicitud | Purificación y desulfuración de gases |
| ParticleSize (Tamaño de la partícula) | Normalmente entre 50 y 200 micras |